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청정실
모든 청정실의 목적은 미크론 미만의 입자의 존재를 제한하고 부적절한 환경 조건을 수정함으로써 환경을 제어하는 것입니다.환경의 통제 수준은 한 청정실과 다른 청정실의 차이점입니다.예를 들어, 10급 클린룸은 1m3 공기 중 0.5m2의 10개의 입자를 가지고 있고, 100,000급 클린룸은 1m3 공기 중 0.5m2의 100,000개의 입자를 가지고 있습니다.
청정실 의 필요성
전자, 첨단 기술, 반도체, 의약품, 항공 우주, 의료 및 다른 많은 산업은 청정실 기술에 의존합니다.제조업에서 오염될 확률이 높아집니다.제약회사에게는 깨끗하고 안전하며 오염물질이 없는 제품이 필수적입니다.
인력: 가장 큰 위협!
청정실 에서 오염 되는 가장 큰 원인 은 인력 이다. 다음 통계 는 인력 오염 을 설명 하기 위해 "오스틴 인덱스"에서 가져온 것 이다.표본에 포함된 직원들은 청결실 의류를 입고 다음 중 하나를 수행했습니다.:
1움직이지 않고 서거나 앉아 있으면 분당 0.3마이크론 이상의 10만개의 입자가 발생했습니다.
2앉아 있거나 서 있는 상태에서 가벼운 머리, 손, 팔꿈치 움직임은 0.3마이크로나 이상인 분당 500,000개의 입자를 발생시켰습니다.
3앉거나 서 있는 상태, 몸과 팔의 평균 움직임, 발가락을 누르는 것,000분당 1000개의 입자, 0.3마이크론 이상
4좌석에서 서 있는 자세를 바꾸면5001분당 1000개의 입자, 0.3마이크론 이상
5- 천천히 걷고, 5000분당 1000개의 입자, 0.3마이크론 이상
(1) 평균 걸음거리 (3.57 mph), 7,500분당 1000개의 입자, 0.3마이크론 이상
(2) 빠른 걸음 (5 mph) 10,000분당 1000개의 입자, 0.3마이크론 이상
6- 계단 올라가는 것, 10,000분당 1000개의 입자, 0.3마이크론 이상