고청정실

모든 고청정실의 목적은 마이크론 이하 입자 이 존재를 제한하고 부적당한 환경적인 조건을 변경함으로써 환경을 제어하는 것입니다. 환경이 통제된 수준은 또 다른 것으로부터 한 고청정실을 분리하는 입니다. 예를 들면, 학급 10 고청정실은 공기의 학급으로서 100,000 고청정실이 입방 피트마다 0.5 사이즈 마이크론의 100,000개 입자를 가지고 있는 곳 공기의 입방 피트 당 0.5 사이즈 마이크론의 10개 입자를 가지고 있습니다.

고청정실에 대한 필요

전자적인 것, 첨단, 반도체, 제약적이, 비행 우주, 의학적이고 많은 다른 산업은 고청정실 기술에 의존합니다. 휴대폰 회로판과 같은 제품이 더 작게 된 것처럼, 제조에서 오염의 기회는 더 높게 됩니다. 제약 회사를 위해, 깨끗하고 안전하고 오염물질이 없는 제품은 가능 제품을 제조하고 분배하는 것에게 명령적입니다.

인원 : 최대 위협!

고청정실에서 오염물의 가장 큰 원인은 인사입니다. 다음의 통계는 인원 오염물을 설명하기 위해 오스틴 지수로부터 잡혔습니다. 샘플링된 인원은 완전히 고청정실 의복으로 덮혔고, 다음 중 하나에 관여했습니다 :

어떤 운동 없이 서 있거나 재직이 100,000 입자 / 분간 0.3 마이크론의 결과가 되었습니다 또는 더 크게.

앉거나 서 있을 때, 광 헤드, 손과 전완 운동은 500,000개 입자 / 분, 0.3 마이크론과 크 결과가 되었습니다.

앉거나 서 있을 때, 평균 몸과 암동작, 발가락 태핑은 1,000,000개 입자 / 분, 0.3 마이크론과 크 결과가 되었습니다.

지위에 앉는 변화 위치들이 2,500,000 입자 / 분간, 0.3 마이크론 또는 크 결과가 되었습니다.

느린 워킹 (시속 마일 2), 5,000,000 입자 / 분간, 0.3 마이크론과 큽니다.

평균 워킹 (시속 마일 3.57), 7,500,000개 입자 / 분, 0.3 마이크론과 큽니다.

걸어다니는 (시속 마일 5) 10,000,000 입자 / 분간 빨리, 0.3 마이크론과 큽니다

상향하는 계단, 10,000,000 입자 / 분간, 0.3 마이크론과 큽니다